| |
A62.4510 |
A62.4511 |
| Modo de trabajo |
Modo de contacto Modo de toque
[Opcional] Modo de fricción Modo de fase Modo magnético Modo electrostático |
Modo de contacto Modo de toque
[Opcional] Modo de fricción Modo de fase Modo magnético Modo electrostático |
| Curva de espectro actual |
Curva RMS-Z Curva de fuerza FZ |
Curva RMS-Z Curva de fuerza FZ |
| Modo de escaneo XY |
Escaneo impulsado por sonda, Escáner de tubo piezoeléctrico |
Escaneo impulsado por muestras, etapa de escaneo por desplazamiento piezoeléctrico de circuito cerrado |
| Rango de escaneo XY |
70×70um |
Lazo cerrado 100×100um |
| Resolución de escaneo XY |
0.2nm |
Lazo cerrado 0.5nm |
| Modo de escaneo Z |
|
Escaneo impulsado por sonda |
| Rango de escaneo Z |
5um |
5um |
| Resolución de escaneo Z |
0.05nm |
0.05nm |
| Velocidad de escaneo |
0,6 Hz~30 Hz |
0,6 Hz~30 Hz |
| Ángulo de escaneo |
0~360° |
0~360° |
| Peso de la muestra |
≤15Kg |
≤0.5Kg |
| Tamaño del escenario |
Diámetro 100 mm
[Opcional] Diámetro 200 mm Diámetro 300 mm |
Diámetro 100 mm
[Opcional] Diámetro 200 mm Diámetro 300 mm |
| Escenario XY en movimiento |
100x100mm, Resolución 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
100x100mm, Resolución 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
| Etapa Z en movimiento |
15 mm, resolución 10 nm [Opcional] 20 mm 25 mm |
15 mm, resolución 10 nm [Opcional] 20 mm 25 mm |
| Diseño amortiguador |
Suspensión de resorte
[Opcional] Amortiguador activo |
Suspensión de resorte
[Opcional] Amortiguador activo |
| Sistema óptico |
Objetivo 5x Cámara digital de 5,0 m
[Opcional] Objetivo 10x Objetivo 20x |
Objetivo 5x Cámara digital de 5,0 m
[Opcional] Objetivo 10x Objetivo 20x |
| Producción |
USB2.0/3.0 |
USB2.0/3.0 |
| Software |
Ganar XP/7/8/10 |
Ganar XP/7/8/10 |
| Cuerpo principal |
Cabezal de escaneo de pórtico, base de mármol |
Cabezal de escaneo de pórtico, base de mármol |